縮寫:ABM(異步平衡模式)
異步平衡模式
分類:IP和多媒體
解釋:由高級數據鏈路控制(HDLC)控制的壹種數據通信方式。異步是指兩個站之間的數據傳輸沒有共同的時鐘，平衡是指兩個站之間的對等通信，消除了數據鏈路兩端有主站和從站的“不平衡”。
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ABM公司成立於1986，總部位於美國矽谷聖何塞。主要經營掩模對準曝光機(光刻機)，個體曝光系統，光強計/探頭。該公司的主要市場是美國和亞洲。
截至2005年6月38日+10月底，ABM公司在全球銷售了300多臺(光刻機)曝光機和50多套獨立曝光系統。最著名的客戶是美國國家航空航天局、英特爾和生產光刻膠的希普利公司。ABM光刻機在臺灣省銷量最高，超過壹半的大學、研究所和部分工廠都在使用ABM光刻機。ABM光刻機的主要特點是機器的性價比非常高。
ABM總部位於美國矽谷，其亞太銷售服務和維護中心位於中國香港。該公司在中國、韓國、日本、印度、新加坡、馬來西亞和亞洲的臺灣省都設有代理機構。W.J.H公司是ABM在中國的獨家代理商。
應用領域
電子封裝(晶圓凸塊和晶圓級CSP)
光電設備(發光二極管、激光二極管、波導陣列)
檢測器(CCD、近/遠紅外線、實時X射線)
MEMS和MOEMS器件顯示器(液晶顯示器、聚合物液晶顯示器、有機發光二極管)
適用感光層適用於各種光刻膠和幹膜、BCB、聚酰亞胺、SU-8、G、H、I線和深紫外曝光。
合適的基礎半導體材料
矽，鍺矽，SOI，SOS，GaAs，磷化銦，銻化銦，CZT，MCT，鈮酸鋰，應時，玻璃
柔性剛性基材(FR-4、BT-環氧樹脂)、Kapton、金屬